光刻機/紫外曝光機 （Mask Aligner）

光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner)

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光係統，光刻係統，紫外曝光機等；ECOPIA為(wei) 的半導體(ti) 設備供應商，多年來致力於(yu) 掩模對準光刻機和勻膠機研發與(yu) 生產(chan) ，並且廣泛應用於(yu) 半導體(ti) 、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產(chan) 能力；並且其設備被眾(zhong) 多著名企業(ye) 、研發中心、研究所和高校所采用；以的技術、*的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

型號：M-150

技術規格：

- 掩模尺寸：大7英寸；

- 樣品尺寸：大6英寸；

- 卡盤移動：X,Y,Z,Theta軸手動，楔形補償(chang) 調平；

- 紫外光源：6.25" X 6.25"；

- 光源功率：350瓦紫外燈；

- 光源均勻性：<+/-3%；

- 光源365nm波長強度：大30毫瓦；

- 顯微鏡：雙顯微鏡係統；

- 顯微鏡移動：X,Y,Z軸手動調節；

- 顯微鏡物鏡空間：50-150mm；

- 標配放大倍率：80X-400X；

- 顯示器：20" LCD；

- 曝光時間：0.1-999秒；

- 接觸模式：真空接觸，硬接觸，軟接觸，接近接觸(距離可調)；

- 對準精度：1um (Vacuum Contact), 1.5um(Hard Contact), 3um(Soft Contact), 5um(Proximity Mode)；

- 電源：220V，單相，15安培；

主要特點:

- 光源強度可控；

- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；

- 係統控製：手動、半自動和全自動控製；

- 曝光模式：真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式；

- 真空吸盤範圍可調；

-技術：可雙麵對準，可雙麵光刻，具有IR和CCD模式

- 雙CCD顯微鏡係統，大放大1000倍，顯示屏直接調節，比傳(chuan) 統目鏡對準更方便快捷，易於(yu) 操作。

- 特殊的基底卡盤可定做；

- 具有楔形補償(chang) 功能；