光刻機/紫外曝光機 （Mask Aligner） 光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光係統，光刻係統，紫外曝光機等；ECOPIA為(wei) 的半導體(ti) 設備供應商，多年來致力於(yu) 掩模對準光刻機和勻膠機研發與(yu) 生產(chan) ，並且廣泛應用於(yu) 半導體(ti) 、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產(chan) 能力；並且其設備被眾(zhong) 多著名企業(ye) 、研發中心、研究所和高校所采用；以