光刻機/紫外曝光機 (Mask Aligner) 光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光係統,光刻係統,紫外曝光機等;ECOPIA為(wei) 的半導體(ti) 設備供應商,多年來致力於(yu) 掩模對準光刻機和勻膠機研發與(yu) 生產(chan) ,並且廣泛應用於(yu) 半導體(ti) 、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產(chan) 能力;並且其設備被眾(zhong) 多著名企業(ye) 、研發中心、研究所和高校所采用;以
更新時間:2020-11-01
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