WEP CVP21電化學C-V剖麵濃度測量儀(yi) 德國WEP公司的CVP21電化學C-V剖麵濃度測試儀(yi) 可高效、準確的測量半導體(ti) 材料（結構，層）中的摻雜濃度分布。選用合適的電解液與(yu) 材料接觸、腐蝕，從(cong) 而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控製。 電化學ECV剖麵濃度測試儀(yi) 主要用於(yu) 半導體(ti) 材料的研究及開發，其原理是使用電化學電容-電壓法來測量半導體(ti) 材料的摻雜濃度分布。電化學ECV（